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感應(yīng)耦合等離子化學(xué)氣相沉積

免費(fèi)樣品檢驗(yàn) 48小時(shí)發(fā)貨 工廠直銷
300萬-1000萬

產(chǎn)品規(guī)格:沉積工藝,、特定溫度范圍內(nèi)制備高質(zhì)量薄膜

公司所在地:重慶

產(chǎn)品庫存:現(xiàn)貨及定制

可供貨地區(qū):全國

其他說明:

SI 500D在基于硅烷的沉積工藝中具有出色性能,,可在80℃-350℃溫度下采用ICPECVD方式制備高質(zhì)量的SiO2、SiOxNY等膜,。采用先進(jìn)的設(shè)備配置,。

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SI 500D在基于硅烷的沉積工藝中具有出色性能,,可在80℃-350℃溫度下采用ICPECVD方式制備高質(zhì)量的SiO2、SiOxNY等膜,。采用先進(jìn)的設(shè)備配置,。收起

品牌:
SENTECH
型號:
SI 500D
功能:
沉積工藝、制備高質(zhì)量薄膜
用途范圍:
適用于器件的生產(chǎn)和研發(fā)應(yīng)用
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