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刻蝕工藝設(shè)備

免費樣品檢驗 48小時發(fā)貨 工廠直銷
300萬-1000萬

產(chǎn)品規(guī)格:反應(yīng)離子刻蝕,、電感耦合等離子體RIE、離子束刻蝕

公司所在地:重慶

產(chǎn)品庫存:現(xiàn)貨及定制

可供貨地區(qū):全國

其他說明:

刻蝕工藝包含以下設(shè)備: 反應(yīng)離子刻蝕:負電偏壓將這些物質(zhì)加速到基板表面以進行蝕刻 電感耦合等離子體:氣體物質(zhì)在電感耦合等離子體源的等離子放電區(qū)域內(nèi)被激活 離子束刻蝕:利用離子源從基片表面蝕刻材料

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刻蝕工藝包含以下設(shè)備: 反應(yīng)離子刻蝕:負電偏壓將這些物質(zhì)加速到基板表面以進行蝕刻 電感耦合等離子體:氣體物質(zhì)在電感耦合等離子體源的等離子放電區(qū)域內(nèi)被激活 離子束刻蝕:利用離子源從基片表面蝕刻材料 收起

品牌:
elettrorava
型號:
RIE,、ICPRIE,、IBE
用途范圍:
基片表面去除材料
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