預(yù)算金額

（萬元）

擬采購標(biāo)的： 1,、名稱：光磁共振實驗儀； 數(shù)量：6臺/套,； 光磁共振實驗儀主要由以下5部分組成： (1)電源系統(tǒng),； (2)磁場發(fā)生器	； (3)真空系統(tǒng),； (4)探測系統(tǒng),； (5)溫控系統(tǒng) 。 供貨期/服務(wù)時限：3個月/3年 2,、名稱：激光性能綜合檢測儀,； 數(shù)量：5臺/套； 實驗設(shè)備主要包括以下模塊： （1）電光調(diào)Q激光器,； （2）半導(dǎo)體泵浦固體激光器,； （3）氣體激光器； （4）鈮酸鋰晶體,； （5）光學(xué)系統(tǒng)模塊,； （6）光學(xué)偏振模塊； （7）光譜儀設(shè)計及光譜測量模塊,； （8）CCD相機,； （9）光纖傳感系統(tǒng)模塊； （10）三維測量系統(tǒng)和光學(xué)檢驗平臺,。 3,、名稱：材料物理性能綜合實驗儀； 數(shù)量：12臺/套 設(shè)備主要組成： （1）組合式綜合光學(xué)實驗裝置,； （2）力學(xué)綜合實驗儀,； （3）熱學(xué)綜合實驗組合儀； （4）電學(xué)綜合實驗儀及附件,； 供貨期/服務(wù)時限：3個月 4,、名稱：光譜測量及應(yīng)用綜合實訓(xùn)儀； 數(shù)量：4臺/套,； 設(shè)備主要組成： （1）單色儀,； （2）可見光及近紅外探測模塊； （3)微弱信號放大模塊,； （4)雙通道數(shù)據(jù)采集模塊,； （5）光源模塊,； 供貨期/服務(wù)時限：3個月 5、名稱：激光性能綜合檢測儀,； 數(shù)量：1臺/套,； 本裝置能實現(xiàn)如下功能： （1）所有元件及測量電路中的可變負(fù)載插在“九孔插板”上并通過該插板實現(xiàn)連接，實現(xiàn)即插即用,、方便快捷搭建電路的目的。 （2）教師可通過裝置自帶屏幕查看設(shè)備實時數(shù)據(jù),。 （3）實驗數(shù)據(jù)可自動生成實驗報告,，可供下載打印。 (4)本裝置具有捕獲及記錄實驗數(shù)據(jù)功能,，并可處理實驗數(shù)據(jù),，生成擬合曲線。 本裝置由 以下部分組成： （1) PID控溫,； （2）信號源,； （3）直流電壓表； （4）直流電流表,； （5）交流電壓表,； （6）直流穩(wěn)壓電源； （7）集成傳感器兩組,，可調(diào)電壓,。

場發(fā)射掃描電子顯微鏡 數(shù)量：1臺/套； 主要技術(shù)參數(shù)： 1.分辨率：0.9 nm @15kV,， 1.0 nm@1kV,； 2.能量分辨率優(yōu)于129eV，Mn Kα,； 3.元素分析范圍：Be4～Am95,； 4.具備點掃、線掃,、面掃,、區(qū)域掃描功能。

鐵電分析儀 數(shù)量：1臺/套,； 主要技術(shù)參數(shù)： 1. 外接高壓：±10KV; 2. 最小電荷解析度：0.8fC,、最大電荷解析度：5.26mC； 3. 最大電滯回線測試頻率：270kHz 最小電滯回線測試頻率：0.03Hz 4. 最小脈沖寬度:0.5μs,；最小漏電流＜1pA,。

超高真空多功能磁控濺射系統(tǒng) 數(shù)量：1臺/套； 主要技術(shù)參數(shù)： 1. 濺射室極限真空度：≤6.67X10-6 Pa,； 2. 進(jìn)樣室極限真空度：≤6.67X10-4 Pa ,； 3. 磁鋼：5個2英寸靶頭,，可360o旋轉(zhuǎn)； 4. 進(jìn)口AE直流濺射電源500W,，3臺,，進(jìn)口射頻濺射電源500W，2臺,；可以同時安放6片φ=30mm基片,；

霍爾效應(yīng)測試儀 數(shù)量：1臺/套； 主要技術(shù)參數(shù)： 1. 采用閉循環(huán)制冷機冷卻,制冷功率≥1.2W@ 4.2K,； 2. 樣品腔溫度范圍：4.2K～325K;可安裝樣品尺寸≤10 mmx10 mm,； 3. 磁場強度：60mm間隙時≥1.0 T； 4.電阻測量范圍：10mΩ-100 MΩ,； 5. 電磁鐵具有連續(xù)360度無限連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能,。

脈沖激光沉積系統(tǒng) 數(shù)量：1臺/套； 主要技術(shù)參數(shù)： 1. 真空室直徑Ф500mm,； 1. 主腔室極限真空的壓強小于9*10-9Torr,； 2. 進(jìn)樣室可抽真空至壓強小于<5*10-7Torr； 3. 在0.1Torr氧氣壓下基片可加熱至1200℃,； 4. 可同時安裝3個靶材,，并可實現(xiàn)靶材的自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)； 5.準(zhǔn)分子激光器高達(dá)800mJ的高能量激光,。

X熒光光譜儀 數(shù)量：1臺/套,； 主要技術(shù)參數(shù)： 1. 元素分析范圍：通常覆蓋Na (鈉) 到 U (鈾)。 輕元素（如 Be,、B,、C、）需配備特殊探測器,。 2.檢測限：ppm級到百分比含量,。 3.分辨率：ED-XRF約<140 eV。WD-XRF 分辨率更高（約<10 eV）,，適用于復(fù)雜譜線分離,。 4.X射線管：銠（Rh）或鎢（W）靶材，功率范圍：4–50 W（可調(diào)）,。 5. 管壓范圍：5–50 kV,，管電流：0–2 mA。

掃描探針顯微鏡 數(shù)量：1臺/套,； 主要技術(shù)參數(shù)： 1. 掃描模式：接觸模式,、輕敲模式、峰值力輕敲模式,、力調(diào)制,、橫向力模式等,。 2. 掃描范圍：標(biāo)準(zhǔn)：90μm×90μm×10μm（XY- Z），可選大范圍掃描器：100μm×100μm×15μm,。 3. 分辨率：原子級（垂直分辨率< 0.1 nm,，橫向< 1 nm）。 4. FastScan模式：高速掃描（可達(dá)50 Hz行頻）,，適合動態(tài)過程觀測,。

超算平臺； 數(shù)量：1臺/套,； 主要技術(shù)參數(shù)： 一,、智算節(jié)點（5臺） 服務(wù)器高度：≥4U 1. CPU：2  intel 8558 (2. 1GHz/48核/260MB/ 330W) CPU; 2. 內(nèi)存：32  64GB DD R5-5600 RDIMM內(nèi)存; 硬盤：2  960GB SATA SSD ; 3. GPU：支持≥8個雙寬PCIe GPU卡，最大可以支持10個雙寬GPU,； 4. 網(wǎng)卡：2端口10GE光接口網(wǎng)卡（含萬兆光模塊）;2  1端口200Gb Infiniband NDR/Ethernet適配卡;4端口1GE電接口網(wǎng)卡; 三、業(yè)務(wù)交換機（1臺） 1,、萬兆高密交換機,，高度≤1U，冗余可插拔電源風(fēng)扇模塊設(shè)計,，擴展插槽≥2個,；交換容量≥2.5Tbps，包轉(zhuǎn)發(fā)率≥1080Mpps 2,、支持≥4094個VLAN功能,；支持STP功能； 四,、計算網(wǎng)路交換機 1,、InfiniBand 交換機端口數(shù)≥40，交換機端口速率≥200Gb/s,，支持EDR,，向下兼容40Gb/s、56Gb/s產(chǎn)品,。

雙波長飛秒激光系統(tǒng),； 數(shù)量：1臺/套； 主要技術(shù)參數(shù)： 1.激光光源: 515nm/ 780nm飛秒激光器,，重頻>80MHz,，脈寬＜150fs，光束質(zhì)量 M2≤ 1.1,，光斑圓度：≥90%,，光斑直徑：2±1mm，偏振態(tài)：線偏振,。 2. 納米級位移臺: 高精度氣浮或機械運動臺,，行程≥50mmx50mm,，編碼器精度1nm; 3. 自動聚焦系統(tǒng)：自動探測定位聚焦起始界面，定位分辨率≤5nm; 4. 共聚焦掃描系統(tǒng)：配有共聚焦掃描系統(tǒng),，可實現(xiàn)3D形貌測量,，定位分辨率≤5nm。

箱式真空鍍膜機 數(shù)量：1臺/套,； 主要技術(shù)參數(shù)： 1. 極限真空: ≤5x10-7 mbar,； 2.電阻蒸發(fā)源功率4KW（8V、600A） 3. E型電子束蒸發(fā)源,，功率10KW,，熱蒸發(fā)10kw 4. 真空計，測量范圍10E-3mbar-10E-9 mbar,，測量范圍1000mbar- 10E-3 mbar 5. 鍍膜時樣品最高加熱溫度500℃±2℃ ,。

光學(xué)輪廓儀； 數(shù)量：1臺/套,； 主要技術(shù)參數(shù)： 1.分辨率達(dá)λ/1000（λ= 632.8nm）,，重復(fù)性精度±0.1nm； 2. 垂直測量范圍：0.1nm 至10mm,全量程閉環(huán)掃描. 3. 垂直分辨率：<0.1nm 4. RMS 重現(xiàn)性：0.01nm 5. 測試精度：0.75% 6. 反射率范圍：0.05% 至 100%.

紫外可見近紅外分光光度計,； 數(shù)量：1臺/套,； 主要技術(shù)參數(shù)： 1. 光源:鹵鎢燈可見光和氘弧紫外光. 2.光譜帶寬UV-Vis 0.01- 5.00 nm 3. NIR 0.04-20 nm,寬度1020 mm; 4. 控制軟件	Cary WinUV for UV-Vis-NIR Appli- cations; 5. 最大掃描速度 UV-Vis 2000 nm/min NIR 8000 nm/min; 6.波長:175 - 3300 nm。